B. 等离子工艺库界面
等离子工艺库界面位于F4参数设置→F3等离子→工艺设置按钮内。
工艺下拉框可以选择当前系统内存在的工艺文件，并在切换时自动加载工艺参数到系统参数中。
等离子工艺参数包括：切割速度、割缝值、提前关弧时间/距离、爬行时间。
其中提前关弧时间/距离参数根据系统选项2中模式的选择而切换。
· F1工艺：用于显示和修改工艺参数，工艺下拉框可以切换不同的工艺。
· F2添加：按F2新增工艺，需要输入工艺名，工艺名重复或超过最大数量时会弹框提示，新增时以默认参数新增工艺。
· F3删除：按F3即弹框提示确认删除，可以删除当前工艺。
· F4保存：在界面中修改的参数不会立刻保存到工艺文件中，需要按F4进行保存。保存结果会弹框提示。
· F6导入：将U盘中所有当前切割模式的工艺全部导入系统硬盘，导入成功或者失败弹窗提示。
· F7导出：将系统硬盘中所有当前切割模式的工艺全部导入U盘，导出成功或者失败弹窗提示。
导入导出时等离子工艺默认U盘路径为flashPLASMA，氧燃气默认U盘路径为flashFALME
· F8加载：加载时将工艺库参数加载到系统参数中，总线有调高器时，也会加载至调高器中。
注：工艺参数库功能为F2000 V5.0 Pro特有功能
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